1、只需要进行简单的改造就可以提高现有设备的除氟效率。

2、通过简单的工艺改造还可以实现氟、磷的同时去除。

3、方法简单、工艺可靠、既能提高处理效率又可减少加药量。

本系统有关参数：停留时间：晶种预制槽10-60分；反应槽20-40分。加药量：氟离子浓度+300mg/l钙离子。

含氟废水的处理存在出水水质不稳定、药剂使用量过多、污泥发生量多且含水率高等问题。特别是随着近年电子信息产业的迅猛发展以及国际环境标准ISO14000在世界范围内得到普遍的认可，从根本上解决含氟废水的处理问题已成为以大规模集成回路和液晶显示器等电子元件为代表的现代电子工业的一个重要的任务。

中国科学院生态环境研究中心研究人员在国外工作期间对常规的石灰法除氟技术进行了系统细致的研究，发现氟化钙沉淀的生成不是单纯地受溶度积的支配。实验结果证明，氟化钙沉淀的生成实际上是氟化钙晶体的形成的过程，在反应初期，特别是在原水浓度相对较低的情况下，能否形成有充分数量的晶种是决定含氟废水处理成败的关键。研究发现，可以按照结晶理论通过设置预制晶种的步骤，也就是所谓的原水分段注入法（已申请日本专利）达到大幅度提高含氟废水处理效率的目的。由于该方法在不改变添加药品的种类，不增加药品使用量的情况下能显著提高除氟效率，该方法在旧厂改造以及新厂建设中都不断得到实际应用（在日本有十几例应用）。该技术曾在每年一度的日本半导体展览会上得到展出。